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“石墨烯之父”又发现超级资料 半导体的未来将是它?

2018-09-10 12:10      点击:

  “石墨烯之父”又发现超级资料 半导体的未来将是它?

  近十年来,全世界对石墨烯和二维资料的研讨进行了巨大的投入。这些尽力没有白搭。近期,一种可运用于未来超算设备的新式半导体资料浮出水面。这种半导体名为硒化铟 (InSe),它只要几原子厚,非常挨近石墨烯。本月,曼彻斯特大学和诺丁汉大学的研讨人员们把这项研讨宣布在学术期刊 《Nature Nanotechnology》上。

  

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硒化铟(Indium Selinide,InSe)

  比石墨烯更好的半导体

  石墨烯只要一层原子那么厚,具有无与伦比的导电性。全世界的专家们都在幻想石墨烯在未来电路中的运用。

  虽然有那么多的超凡特色,石墨烯却没有能隙(energy gap)。不同于一般的半导体,它的化学体现更像是金属。这使得它在相似于晶体管的运用上远景暗淡。

  这项新发现证明,硒化铟晶体能够做得只要几层原子那么薄。它已体现出大幅优于硅的电子特色。而硅是今日的电子元器件(尤其是芯片)所遍及运用的资料。

  更重要的是,跟石墨烯不同,硒化铟的能隙相当大。这使得它做成的晶体管能够很容易地敞开/封闭。这一点和硅很像,使硒化铟成为硅的抱负代替资料。人们能够用它来制造下一代超高速的电子设备。

  石墨烯之父:它是硅和石墨烯中心的抱负资料

  当下,科学家们很喜欢把石墨烯和其他优异的资料结合起来。让石墨烯的特殊特色和其他资料的特色进行互补。这往往发生令人兴奋的科学发现,并会以咱们幻想不到的方法运用在实际问题中。

  石墨烯之父 Sir Andre Geim 说:

  超薄的硒化铟,是处于硅和石墨烯之间的抱负资料。相似于石墨烯,硒化铟具有天然超薄的形状,使真实纳米级的工艺成为可能。又和硅相似,硒化铟是优异的半导体。

  

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Sir Andre Geim

  因为发现了石墨烯,Sir Andre Geim 获得了诺贝尔物理学奖。他一起也是这项研讨的作者之一。他以为,这项硒化铟的发现会对未来电子工业发生巨大冲击。